این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
Journal of Optoelectronical Nanostructures، جلد ۷، شماره ۳، صفحات ۶۷-۹۱
عنوان فارسی
چکیده فارسی مقاله
کلیدواژه‌های فارسی مقاله
عنوان انگلیسی Role of Critical Processing Parameters on Fundamental Phenomena and Characterizations of DC Argon Glow Discharge
چکیده انگلیسی مقاله Given the significance of carefully analyzingthe critical range for processing parameters in asputtering system prior to experiments, as well as theireffect on the quality of the deposited thin film, thiscrucial subject has been simulated and researched in thisresearch. Argon glow discharge conditions were obtainedby altering essential processing factors such as electrodespacing, working pressure, and DC voltage delivered tothe electrodes. The effect of changing these processingparameters on the potential difference and electric fieldprofiles, ion- and electron-density, ion- and electronkineticenergy, and cross-section of fundamentalprocesses has been investigated to study the depositionrate and microstructural characteristics of thin films.Furthermore, the cross-section of fundamental ions-andelectroncollision processes like ionization, elasticscattering, excitation, and charge exchange has beeninvestigated.
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله Argon glow discharge, Electrodes distance, Working pressure, Applied power
نویسندگان مقاله Maryam Shakiba |
1Assistant Professor, Department of Electrical and Computer Engineering, Jundi-Shapur University of Technology

Mohsen Shakiba |
2Assistant Professor, Department of Electrical and Computer Engineering, Jundi-Shapur University of Technology

نشانی اینترنتی https://jopn.marvdasht.iau.ir/article_5338_0bd5128b2332039821e9dafb7f0fa40b.pdf
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده en
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات