این سایت در حال حاضر پشتیبانی نمی شود و امکان دارد داده های نشریات بروز نباشند
پژوهش فیزیک ایران، جلد ۱، شماره ۳، صفحات ۲۰۱-۲۰۶
عنوان فارسی تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه
چکیده فارسی مقاله در این مقاله مشخصه­های اپتیکی لایه­های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتاً ساده اندازه­گیری می­شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta از طریق روابط فرنل بدون اندازه­گیری مستقیم ضریب عبور می­توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه ـ زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه­های اپتیکی مواد As2S3 , Na3AIF6 , PbF2 , MgF2 , ZnS انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه­ای حساب به نور ارائه می­شود.
کلیدواژه‌های فارسی مقاله
عنوان انگلیسی Determination of the optical parameters of thin films during the process of coating in vacuum without direct measurement of the coefficients of reflection or transmission
چکیده انگلیسی مقاله
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله
نویسندگان مقاله آ پ آوچرنکو | a p ovcharenko


ارشمید نهال | a nahal


اس و ماسکینای | s u mashkina


ی ایی پلاوسکایا | e i plauskaya


ی آ لوپاشکو | e a lupashko


نشانی اینترنتی http://ijpr.iut.ac.ir/browse.php?a_code=A-10-1-312&slc_lang=fa&sid=fa
فایل مقاله اشکال در دسترسی به فایل - ./files/site1/rds_journals/1342/article-1342-236461.pdf
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده fa
موضوعات مقاله منتشر شده تخصصی
نوع مقاله منتشر شده پژوهشی
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات