|
|
سرامیک ایران، جلد ۱۶، شماره ۲، صفحات ۶۶-۷۱
|
|
|
| عنوان فارسی |
کاربرد نیمهرساناهای اکسیدی نانوساختار (TiO۲، ZnO، Fe۲O۳، WO۳ و ...) برای شکافت فوتوالکتروشیمیایی آب |
|
| چکیده فارسی مقاله |
شکافت فوتوالکتروشیمیایی و فوتوکاتالیستی آب با استفاده از نیمهرساناهای اکسیدی نانوساختار یکی از روشهای موثر برای ایجاد هیدروژن است. نیمهرساناهای اکسیدی به عنوان فوتوالکترود نقش مهمی در فعال شدن فرآیندهای احیا و اکسیداسیون شیمیایی در حضور نور دارند. با جذب نور توسط فوتوالکترودها الکترونها تهییج شده و از طریق واکنش کاهش- اکسایش، جفت الکترون- حفره ایجاد میشود. جداسازی بار (جفت الکترون- حفره) و انتقال آن در شکافت فوتوالکتروشیمیایی و فوتوکاتالیستی آب موضوع مهم و اساسی است. نانومواد نسبت سطح به حجم بالایی دارند که جداسازی بار را تسهیل کرده و از بازترکیب جفت الکترون- حفره جلوگیری میکنند. عوامل موثر بر مکانیزم شکافت آب خصوصیات الکترونی و ساختاری فوتوکاتالیست و فوتوالکترود مورد استفاده است، به همین خاطر بطور گسترده مورد تحقیق و پژوهش قرار میگیرند. در این مقاله مهمترین و پرکاربردترین نیمهرساناهای اکسیدی و بهبودهای اخیر این نیمهرساناها گزارش شده است. |
|
| کلیدواژه‌های فارسی مقاله |
نیمه رسانا، اکسید فلزات، نانوساختار، شکافت آب |
|
| عنوان انگلیسی |
|
|
| چکیده انگلیسی مقاله |
|
|
| کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله |
|
|
| نویسندگان مقاله |
مهری مقصودی |
دانشگاه تبریز
شاهین خامنه اصل |
دانشگاه تبریز
|
|
| نشانی اینترنتی |
http://jicers.ir/browse.php?a_code=A-10-1564-1&slc_lang=fa&sid=1 |
| فایل مقاله |
فایلی برای مقاله ذخیره نشده است |
| کد مقاله (doi) |
|
| زبان مقاله منتشر شده |
fa |
| موضوعات مقاله منتشر شده |
|
| نوع مقاله منتشر شده |
پژوهشی |
|
|
|
برگشت به:
صفحه اول پایگاه |
نسخه مرتبط |
نشریه مرتبط |
فهرست نشریات
|