سرامیک ایران، جلد ۱۶، شماره ۳، صفحات ۴۵-۶۱

عنوان فارسی ساخت پوشش‌های مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر؛ مروری بر سازوکار، عوامل مؤثر و قابلیت‌ها
چکیده فارسی مقاله لایه‌های نازک مزوسیلیس دارای اهمیت و کاربرد زیادی در حوزه‌های مختلف هستند. کنترل شکل، اندازه و میزان تخلخل‌های پوشش‌ها، نقش مهمی در عملکرد این پوشش در کاربردهای مختلف ایفا می‌کند. به‌منظور دستیابی به ویژگی‌های موردنظر، به­کارگیری روش­های مناسب اهمیت بسیاری دارد. در میان روش‌های مختلفی که برای ساخت پوشش‌های مزوسیلیس مورد استفاده قرار می‌گیرند، پرکاربردترین روش، روش خودآرایی القاشده با تبخیر است. امکان به‌کارگیری انواع عوامل فعال سطحی برای ایجاد تخلخل، ساخت انواع پوشش با ویژگی‌های مختلف، قابلیت اعمال پوشش بر انواع زیرلایه با شکل و جنس‌های گوناگون (فلزی، سرامیکی و پلیمری) از جمله‌ مزایای این روش هستند. مهم‌ترین بخش روش خودآرایی القاشده با تبخیر، آماده‌سازی محلول است و برای این کار نیاز است واکنش‌های صورت گرفته، مراحل آن و نقش هر یک از اجزا به‌خوبی شناخته شود. در این مقاله مروری به روش خودآرایی القاشده با تبخیر برای ساخت پوشش‌های مزوسیلیس، عوامل مؤثر بر آن و مهم‌ترین قابلیت‌های این روش پرداخته می‌شود.
کلیدواژه‌های فارسی مقاله پوشش، مزوسیلیس، تخلخل، خودآرایی

عنوان انگلیسی Evaporation Induced Self-Assembly Method for Mesoporous Silica Thin Films Synthesis: Mechanism, Affecting Parameters and Capabilities
چکیده انگلیسی مقاله
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله Mesoporous silica, Coatings, Porosity, Self-Assembly.

نویسندگان مقاله فاطمه حسن آقائی | Fateme Hassan-Aghaei
Imam Khomeini International University
دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره)

محمدمسعود محبی | Mohamad Masoud Mohebi
Imam Khomeini International University
دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره)


نشانی اینترنتی http://jicers.ir/browse.php?a_code=A-10-1629-1&slc_lang=fa&sid=1
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده fa
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده پژوهشی
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   نسخه مرتبط   |   نشریه مرتبط   |   فهرست نشریات